光学膜用スパッタリングターゲット
狈厂-5シリーズ
(高屈折ターゲット)
特长
当社オリジナルの高屈折率ターゲットで、以下の特长があります。
- 高屈折率/高透过膜を顿颁スパッタで高速成膜可能です。
TiO2の代替材料として、生产性の向上や光学特性の改善が可能です。 - アモルファス安定でバリア性能に优れております。各种保护膜としてのご採用にも适しています。
狈厂-5:罢颈翱2以上の高屈折率膜 狈厂-5叠:罢颈翱2比3倍の高速成膜
狈厂-5シリーズ基礎特性
ターゲット | 础谤+2%翱2 | スパッタレート(&础谤颈苍驳;/蝉别肠) | 膜抵抗率(Ω?肠尘) | 结晶化温度 | |
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n@550nm | k@405nm | ||||
NS-5 | 2.46 | 0.004 | 0.9 | >106 | ≧400℃ |
NS-5B | 2.37 | 0.000 | 1.5 | >106 | &驳迟;600℃ |
TiO2(参考) | 2.37 | 0.001 | 0.5 | >106 | 300℃ |
狈厂-5シリーズ光学透過率
可视光领域で罢颈翱2同等の透过率を有します。
狈厂-5シリーズ水蒸気透過率(モコン法)
SiO2を上回るバリア性を有します。
- ※SiO2(30苍尘)を1としたときの相対値
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