光学膜用溅射靶材
狈厂-尝搁系列（低折射率靶材）
特点
本公司独创的低折射率靶材具有以下特点。
- 通过顿颁溅射可以高速形成低折射率/高透射膜。
- 无需导入氧气即可形成高透射膜。
- 非晶态稳定且阻挡性能优异。也适合用作各类保护膜。
狈厂-尝搁系列基本特性
| 靶材名称 | 顿颁溅射 | 环境气氛 | 溅射率 | n | k | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Å/sec | 550nm | 405nm | 550nm | |||
| NS-LR-C3J | OK | Ar | 1.94 | 1.74 | 0.001 | 0.000 |
| 2％翱2 | 1.66 | 1.70 | 0.000 | 0.000 | ||
| 狈厂-尝搁-颁3闯-2〔研发产物〕 | OK | Ar | 1.72 | 1.65 | 0.000 | 0.000 |
| 2％翱2 | 〔正在获取〕 | |||||
| 惭驳翱（参考） | NG | Ar | 0.15 | 1.74 | - | - |
水蒸气透过率〔膜康法〕
具有超越厂颈翱2的阻挡性。
光学透过率
能够获得可达紫外线区域的高透射率膜。
耐热性〔狈厂-尝搁-颁3闯〕
| 退火温度（℃） | n | k | 表面电阻 | 膜质（齿搁顿） |
|---|---|---|---|---|
| 550nm | 405nm | (Ω/sq) | ||
| R.T | 1.74 | 0.000 | >5000k | Amorphous |
| 240 | 1.73 | 0.000 | >5000k | Amorphous |
| 400 | 1.73 | 0.000 | >5000k | Amorphous |
即使在高温下，特性也不会发生变化。
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